标准详情与信息
标准名称：微机电系统（MEMS）技术 基于光学干涉的MEMS微结构残余应变测量方法
标准号：GB/T 34900-2017
发布日期：2017-11-01
实施日期：2018-05-01
管理部门：国家标准化管理委员会
行业分类：电子学
此标准适用于表面反射率不低于4％且使用光学干涉显微镜能够获取表面形貌的微双端固支梁结构。
起草单位与起草人
起草单位包含：天津大学、中机生产力促进中心、国家仪器仪表元器件质量监督检验中心、南京理工大学、中国电子科技集团公司第十三研究所。
起草人包含：郭彤 、胡晓东 、李海斌 、于振毅 、裘安萍 、程红兵 、崔波 、朱悦 。
*本网站标准资料仅供参考，使用标准请以正式出版的标准版本为准。