标准详情与信息
标准名称：碳化硅外延层厚度的测试 红外反射法
标准号：GB/T 42905-2023
发布日期：2023-08-06
实施日期：2024-03-01
管理部门：国家标准化管理委员会
行业分类：冶金
此标准适用于n型掺杂浓度大于1×1018cm-3的碳化硅衬底上同质掺杂浓度小于1×1016cm-3的同质碳化硅外延层厚度的测试，测试范围为3μm~200μm。
起草单位与起草人
起草单位包含：安徽长飞先进半导体有限公司、安徽芯乐半导体有限公司、河北普兴电子科技股份有限公司、广东天域半导体股份有限公司、南京国盛电子有限公司、浙江芯科半导体有限公司、布鲁克（北京）科技有限公司、中国科学院半导体研究所、有色金属技术经济研究院有限责任公司。
起草人包含：钮应喜 、刘敏 、袁松 、赵丽霞 、丁雄杰 、吴会旺 、仇光寅 、李素青 、李京波 、张会娟 、赵跃 、彭铁坤 、雷浩东 、闫果果 。
*本网站标准资料仅供参考，使用标准请以正式出版的标准版本为准。