标准详情与信息
标准名称：多层金属薄膜 层结构测量分析方法 X射线光电子能谱
标准号：T/CSTM 01199-2024
发布日期：2024-01-05
实施日期：2024-04-05
行业分类：M745 质检技术服务
本文件规定了X射线光电子能谱仪（XPS）深度剖析测量多层金属薄膜层结构的分析方法。
起草单位与起草人
主要起草人：范燕、卓尚军、严楷、王双、李林清、王海、杨秋，江柯敏、刘海全、谭晓逸、谭军、白敬胜。
起草单位：季华实验室、中国科学院上海硅酸盐研究所、广东工业大学、中国计量科学研究院、宁波新材料测试评价中心有限公司、中材新材料研究院（广州）有限公司。
范围：本文件规定了X射线光电子能谱仪（XPS）深度剖析测量多层金属薄膜层结构的分析方法。
本文件适用于70 nm~240 nm深度内纳米尺度多层金属薄膜层成分、化学态、膜厚的表征。*本网站标准资料仅供参考，使用标准请以正式出版的标准版本为准。