标准详情与信息
标准名称:半导体晶片近边缘几何形态评价 第1部分:高度径向二阶导数法(ZDD)
标准号:GB/T 43894.1-2024
发布日期:2024-04-25
实施日期:2024-11-01
管理部门:国家标准委
行业分类:冶金
此标准描述了一系列高度径向二阶导数法(ZDD)评价半导体晶片的近边缘几何形态的方法。
此标准适用于硅抛光片、硅外延片、SOI订片及其他带有表面层的圆形晶片,也用于其他半导体材料圆形晶片近边缘几何形态的评价。
起草单位与起草人
起草单位包含:山东有研半导体材料有限公司、浙江丽水中欣晶圆半导体科技有限公司、金瑞泓微电子(嘉兴)有限公司、中环领先半导体材料有限公司、广东天域半导体股份有限公司、鸿星科技(集团)股份有限公司。
起草人包含:王玥 、朱晓彤 、孙燕 、宁永铎 、徐新华 、徐国科 、李春阳 、张海英 、陈海婷 、丁雄杰 、郭正江 。
*本网站标准资料仅供参考,使用标准请以正式出版的标准版本为准。
